අපගේ වෙබ් අඩවි වෙත සාදරයෙන් පිළිගනිමු!

FeTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom made

යකඩ ටැන්ටලම්

කෙටි විස්තරය:

වර්ගය

ඇලෝයි ස්පුටරින් ඉලක්කය

රසායනික සූත්රය

FeTa

සංයුතිය

යකඩ ටැන්ටලම්

පිරිසිදුකම

99.9%, 99.95%, 99.99%

හැඩය

තහඩු, තීරු ඉලක්ක, චාප කැතෝඩ, අභිරුචි-සාදන ලද

නිෂ්පාදන ක්රියාවලිය

රික්ත දියවීම

ලබා ගත හැකි ප්රමාණය

L≤200mm,W≤200mm


නිෂ්පාදන විස්තර

නිෂ්පාදන ටැග්

Iron Tantalum Sputtering Target විස්තරය

යකඩ ටැන්ටලම් මිශ්‍ර ලෝහය වාෂ්පීකරණ ප්‍රභවයන්, ඉලෙක්ට්‍රෝන නල, කෘතිම උපාංග සහ සෘජුකාරක සඳහා සුදුසු ද්‍රව්‍යයකි.අපි ඉහළ සංශුද්ධතාවය සහ සමජාතීය ව්‍යුහය සහිත Fe-Ta මිශ්‍ර ලෝහය ලබා ගැනීම සඳහා වාත්තු කිරීමේ සහ වේගවත් ඝණීකරණ ක්‍රමයක් භාවිතා කරමු.අප නිෂ්පාදනය කරන ඉලක්කයට විශිෂ්ට යාන්ත්‍රික ගුණ ඇති අතර පිරිපහදු කළ මතුපිට ස්ථර නිපදවිය හැකිය.

Iron Tantalum Sputtering Target Packaging

අපගේ Iron Tantalum sputter ඉලක්කය පැහැදිලිව ටැග් කර ඇති අතර කාර්යක්ෂම හඳුනා ගැනීම සහ තත්ත්ව පාලනය සහතික කිරීම සඳහා බාහිරව ලේබල් කර ඇත.ගබඩා කිරීමේදී හෝ ප්‍රවාහනයේදී සිදුවිය හැකි හානිය වළක්වා ගැනීමට දැඩි සැලකිල්ලක් දක්වයි.

සම්බන්ධතා ලබා ගන්න

RSM හි Iron Tantalum ඉසින ඉලක්ක අතිශය ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් සහ ඒකාකාරී වේ.ඒවා විවිධ ආකාරවලින්, සංශුද්ධතාවයෙන්, ප්රමාණවලින් සහ මිල ගණන් වලින් ලබා ගත හැකිය.

අපට විවිධ ජ්‍යාමිතික ආකෘති සැපයිය හැකිය: නල, චාප කැතෝඩ, ප්ලැනර් හෝ අභිරුචි-සාදන ලද.අපගේ නිෂ්පාදන විශිෂ්ට යාන්ත්‍රික ගුණ, සමජාතීය ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහය, වෙන් කිරීමකින් තොරව ඔප දැමූ මතුපිටක්, සිදුරු හෝ ඉරිතැලීම් වලින් සමන්විත වේ.

පුස් ආලේපනය, සැරසිලි, මෝටර් රථ කොටස්, අඩු-ඊ වීදුරු, අර්ධ සන්නායක ඒකාබද්ධ පරිපථය, තුනී පටල සඳහා භාවිතා කිරීම සඳහා විශිෂ්ට කාර්ය සාධනයක් මෙන්ම හැකි ඉහළම ඝනත්වය සහ හැකි කුඩාම සාමාන්‍ය ධාන්ය ප්‍රමාණයන් සහිත ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් තුනී පටල ආලේපන ද්‍රව්‍ය නිෂ්පාදනය කිරීමට අපි විශේෂීකරණය කරමු. ප්‍රතිරෝධය, ග්‍රැෆික් සංදර්ශකය, අභ්‍යවකාශය, චුම්බක පටිගත කිරීම, ස්පර්ශ තිරය, තුනී පටල සූර්ය බැටරි සහ අනෙකුත් භෞතික වාෂ්ප තැන්පත් (PVD) යෙදුම්.ලැයිස්තුගත කර නොමැති ඉසින ඉලක්ක සහ අනෙකුත් තැන්පත් ද්‍රව්‍ය පිළිබඳ වත්මන් මිල ගණන් සඳහා කරුණාකර අපට විමසීමක් එවන්න.


  • කලින්:
  • ඊළඟ: