NiCrCu Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom made

NiCrCu Sputtering ඉලක්කය නිපදවනු ලබන්නේ නිකල් ක්‍රෝමියම් තඹ අමුද්‍රව්‍ය උණු කිරීම සහ වාත්තු කිරීම මගිනි.එය ඉහළ ප්රතිරෝධයක්, අඩු උෂ්ණත්ව සංගුණකයක් සහ ඉහළ සංවේදීතාවයක් ඇත.නිකල් සහ ක්‍රෝමියම් වලට සමාන පෘෂ්ඨීය ශක්තියක් ඇති අතර NiCrCu තුනී පටල තැන්පත් කිරීමේ සංයුතිය ඉසින ඉලක්කයට සමාන වන බැවින් තැන්පත් වීමේ ප්‍රතිඵලය පාලනය කිරීම පහසුය.

Rich Special Materials විසින් Sputtering Target නිෂ්පාදනය සඳහා විශේෂීකරණය වී ඇති අතර පාරිභෝගිකයින්ගේ පිරිවිතරයන්ට අනුව නිකල් ක්‍රෝමියම් තඹ ඉසින ද්‍රව්‍ය නිෂ්පාදනය කළ හැකිය.වැඩි විස්තර සඳහා කරුණාකර අප හා සම්බන්ධ වන්න.