CoCr මිශ්‍ර ලෝහ ඉසින ඉලක්කය ඉහළ සංශුද්ධතාවය තුනී පටල Pvd ආලේපනය අභිරුචියෙන් සාදා ඇත

Cobalt Chromium Sputtering Targets නිපදවනු ලබන්නේ Vacuum Melting සහ PM මගිනි.CoCr සතුව ඉහළ නිශ්චිත ශක්තියක් ඇති අතර අභ්‍යවකාශ කර්මාන්තය, හැඳි ගෑරුප්පු, ෙබයාරිං, බ්ලේඩ් යනාදිය ඇතුළුව ඉහළ ඇඳුම් ප්‍රතිරෝධයක් අවශ්‍ය වූ විවිධ ක්ෂේත්‍රවල භාවිතා කර ඇත.

CoCr මිශ්‍ර ලෝහ වැඩි වශයෙන් Cr2O3 වලින් සමන්විත ආරක්ෂිත නිෂ්ක්‍රීය පටලයක් ස්වයංසිද්ධව සෑදීම සහ මතුපිට ඇති කුඩා ප්‍රමාණයේ කොබෝල්ට් සහ අනෙකුත් ලෝහ ඔක්සයිඩ හේතුවෙන් විඛාදනයට ඉහළ ප්‍රතිරෝධයක් දක්වයි.ජෛව වෛද්‍ය කර්මාන්තයේ එහි පුළුල් යෙදුම පෙන්නුම් කරන පරිදි, CoCr මිශ්‍ර ලෝහ ඒවායේ ජෛව අනුකූලතාව සඳහා ප්‍රසිද්ධය.එහි ජෛව අනුකූලතාව, ඇඳුම්-ප්‍රතිරෝධය සහ රසායනික නිෂ්ක්‍රියතාවය හේතුවෙන් එය වෛද්‍ය විද්‍යාවේ සහ දන්ත වෛද්‍ය විද්‍යාවේ බහුලව භාවිතා වේ.

කොබෝල්ට් ක්‍රෝම් මිශ්‍ර ලෝහ යන්ත්‍ර සෑදීම තරමක් අපහසුයි.CoCr මිශ්‍ර ලෝහවල දෘඪතාව 550-800 MPa දක්වා වෙනස් වන අතර ආතන්ය ශක්තිය 145-270 MPa දක්වා වෙනස් වේ.CoCr හි වැඩි දෘඪතාව සහ ආතන්ය ශක්තිය ඇතුළු විශිෂ්ට යාන්ත්රික ගුණ ඇත.CoCr යනු ස්වර්ණාභරණ වෙළඳුන් විසින් එහි අලංකාර දීප්තිය සඳහා භාවිතා කරන ඉතා ජනප්‍රිය විකල්ප ලෝහයකි.එය හොඳ චුම්බක ගුණ ද ඇත，කොබෝල්ට්-ක්‍රෝමියම්-ටැන්ටලම් (Co-Cr-Ta) ලම්බක චුම්භක පටිගත කිරීමේ පටල සඳහා වැදගත් ද්‍රව්‍ය විය.

Rich Special Materials විසින් Sputtering Target නිෂ්පාදනය සඳහා විශේෂීකරණය වී ඇති අතර පාරිභෝගිකයන්ගේ පිරිවිතරයන්ට අනුව Cobalt Chromium Sputtering ද්‍රව්‍ය නිෂ්පාදනය කළ හැකිය.වැඩි විස්තර සඳහා කරුණාකර අප හා සම්බන්ධ වන්න.