අප කවුරුත් දන්නා පරිදි, ඉසින ඉලක්ක සඳහා බොහෝ පිරිවිතර ඇති අතර, ඒවායේ යෙදුම් ක්ෂේත්‍ර ද ඉතා පුළුල් ය.විවිධ ක්ෂේත්‍රවල බහුලව භාවිතා වන ඉලක්ක වර්ග ද වෙනස් වේ.අද, RSM හි සංස්කාරකය සමඟින් ඉලක්ක යෙදුම් ක්ෂේත්‍ර sputtering වර්ගීකරණය ගැන ඉගෙන ගනිමු!
1, sputtering ඉලක්කය අර්ථ දැක්වීම
ස්පුටරින් යනු තුනී පටල ද්රව්ය සකස් කිරීම සඳහා ප්රධාන තාක්ෂණයකි.එය අයන ප්‍රභවයෙන් නිපදවන අයන භාවිතා කර රික්තය තුළ වේගවත් අයන කදම්භයක් සෑදීමට, ඝන පෘෂ්ඨයට බෝම්බ හෙලීමට සහ ඝන පෘෂ්ඨයේ ඇති පරමාණු සමඟ අයන මගින් චාලක ශක්තිය හුවමාරු කර ගැනීමට රික්තය තුළ රැස් කරයි. පෘෂ්ඨය ඝනයෙන් වෙන් කර උපස්ථර මතුපිට තැන්පත් කර ඇත.බෝම්බ හෙලන ලද ඝන ද්‍රව්‍යය ස්පුටරින් විසින් තැන්පත් කරන ලද තුනී පටලයක් සකස් කිරීමේ අමුද්‍රව්‍යය වන අතර එය ඉසින ඉලක්කය ලෙස හැඳින්වේ.
2, sputtering ඉලක්ක යෙදුම් ක්ෂේත්‍ර වර්ගීකරණය
1. අර්ධ සන්නායක ඉලක්කය
(1) පොදු ඉලක්ක: මෙම ක්ෂේත්‍රයේ පොදු ඉලක්ක අතරට ටැන්ටලම් / තඹ / ටයිටේනියම් / ඇලුමිනියම් / රන් / නිකල් වැනි ඉහළ ද්‍රවාංක ලෝහ ඇතුළත් වේ.
(2) භාවිතය: ප්රධාන වශයෙන් ඒකාබද්ධ පරිපථ සඳහා ප්රධාන අමුද්‍රව්‍ය ලෙස භාවිතා වේ.
(3) කාර්ය සාධන අවශ්යතා: සංශුද්ධතාවය, ප්රමාණය, අනුකලනය ආදිය සඳහා ඉහළ තාක්ෂණික අවශ්යතා.
2. පැතලි පැනල් සංදර්ශකය සඳහා ඉලක්කය
(1) පොදු ඉලක්ක: මෙම ක්ෂේත්‍රයේ පොදු ඉලක්ක අතර ඇලුමිනියම් / තඹ / මොලිබ්ඩිනම් / නිකල් / නයෝබියම් / සිලිකන් / ක්‍රෝමියම් ආදිය ඇතුළත් වේ.
(2) භාවිතය: රූපවාහිනී සහ නෝට්බුක් වැනි විවිධ වර්ගවල විශාල ප්‍රදේශයේ චිත්‍රපට සඳහා මෙවැනි ඉලක්කයක් බොහෝ විට භාවිතා වේ.
(3) කාර්ය සාධන අවශ්යතා: සංශුද්ධතාවය, විශාල ප්‍රදේශය, ඒකාකාරී බව සඳහා ඉහළ අවශ්යතා.
3. සූර්ය කෝෂ සඳහා ඉලක්ක ද්රව්ය
(1) පොදු ඉලක්ක: ඇලුමිනියම් / තඹ / molybdenum / chromium / ITO/Ta සහ සූර්ය කෝෂ සඳහා වෙනත් ඉලක්ක.
(2) භාවිතය: ප්රධාන වශයෙන් "කවුළු ස්ථරය", බාධක ස්ථරය, ඉලෙක්ට්‍රෝඩ සහ සන්නායක පටලවල භාවිතා වේ.
(3) කාර්ය සාධන අවශ්යතා: ඉහළ තාක්ෂණික අවශ්යතා සහ පුළුල් යෙදුම් පරාසය.
4. තොරතුරු ගබඩා කිරීම සඳහා ඉලක්කය
(1) පොදු ඉලක්ක: කොබෝල්ට් / නිකල් / ෆෙරෝඇලෝයි / ක්‍රෝමියම් / ටෙලූරියම් / සෙලේනියම් සහ තොරතුරු ගබඩා කිරීම සඳහා වෙනත් ද්‍රව්‍යවල පොදු ඉලක්ක.
(2) භාවිතය: මෙම ආකාරයේ ඉලක්ක ද්රව්ය ප්රධාන වශයෙන් චුම්බක හිස, මැද ස්ථරය සහ ඔප්ටිකල් ඩ්‍රයිව් සහ ඔප්ටිකල් තැටියේ පහළ ස්ථරය සඳහා භාවිතා වේ.
(3) කාර්ය සාධන අවශ්යතා: ඉහළ ගබඩා ඝනත්වයක් සහ ඉහළ සම්ප්‍රේෂණ වේගයක් අවශ්‍ය වේ.
5. මෙවලම් වෙනස් කිරීම සඳහා ඉලක්කය
(1) පොදු ඉලක්ක: මෙවලම් මගින් වෙනස් කරන ලද ටයිටේනියම් / සර්කෝනියම් / ක්‍රෝමියම් ඇලුමිනියම් මිශ්‍ර ලෝහ වැනි පොදු ඉලක්ක.
(2) භාවිතය: සාමාන්යයෙන් මතුපිට ශක්තිමත් කිරීම සඳහා භාවිතා වේ.
(3) කාර්ය සාධන අවශ්යතා: ඉහළ කාර්ය සාධන අවශ්යතා සහ දිගු සේවා කාලය.
6. ඉලෙක්ට්රොනික උපාංග සඳහා ඉලක්ක
(1) පොදු ඉලක්ක: ඉලෙක්ට්රොනික උපාංග සඳහා පොදු ඇලුමිනියම් මිශ්‍ර ලෝහ / සිලිසයිඩ් ඉලක්ක
(2) අරමුණ: සාමාන්යයෙන් තුනී පටල ප්රතිරෝධක සහ ධාරිත්‍රක සඳහා භාවිතා වේ.
(3) කාර්ය සාධන අවශ්යතා: කුඩා ප්රමාණය, ස්ථාවරත්වය, අඩු ප්රතිරෝධක උෂ්ණත්ව සංගුණකය
පසු කාලය: ජූලි-27-2022