සිලිකන් මත පදනම් වූ ෆෝටෝනික්ස් දැනට ඊලඟ පරම්පරාවේ ෆෝටෝනික්ස් වේදිකාව ලෙස සැලකේ.කෙසේ වෙතත්, සංයුක්ත සහ අඩු බල ඔප්ටිකල් මොඩියුලේටර් සංවර්ධනය අභියෝගයක් ලෙස පවතී.මෙහිදී අපි Ge/SiGe සම්බන්ධ වූ ක්වොන්ටම් ළිංවල යෝධ විද්‍යුත් දෘශ්‍ය ආචරණයක් වාර්තා කරමු.Ge/SiGe ක්වොන්ටම් ළිංවල ඉලෙක්ට්‍රෝන සහ සිදුරු වෙන වෙනම සීමා කිරීම හේතුවෙන් මෙම ප්‍රබෝධමත් බලපෑම පදනම් වී ඇත්තේ විෂම ක්වොන්ටම් ස්ටාර්ක් ආචරණය මතය.සිලිකන් ෆෝටෝනික්ස් හි මෙතෙක් වර්ධනය කර ඇති සම්මත ප්‍රවේශයන් හා සසඳන විට ආලෝක මොඩියුලේටරවල ක්‍රියාකාරිත්වය සැලකිය යුතු ලෙස වැඩිදියුණු කිරීමට මෙම සංසිද්ධිය භාවිතා කළ හැකිය.අපි වර්තන දර්ශකයේ 2.3 × 10-3 දක්වා වෙනස්වීම් 1.5 V ක පක්ෂග්රාහී වෝල්ටීයතාවයකින් 0.046 Vcm හි අනුරූප මොඩියුලේෂන් කාර්යක්ෂමතාව VπLπ සමඟ මැන ඇත.මෙම ආදර්ශය Ge/SiGe ද්‍රව්‍ය පද්ධති මත පදනම් වූ කාර්යක්ෂම අධිවේගී අදියර මොඩියුලේටර සංවර්ධනය සඳහා මග පාදයි.
පසු කාලය: ජූනි-06-2023