වෙළඳපල ඉල්ලුම වැඩිවීමත් සමඟ, වැඩි වැඩියෙන් ඉසින ඉලක්ක නිරන්තරයෙන් යාවත්කාලීන වේ.සමහර ඒවා හුරුපුරුදු වන අතර සමහර ඒවා පාරිභෝගිකයින්ට නුහුරු ය.දැන්, අපි මැග්නට්‍රෝන ඉසින ඉලක්ක වර්ග මොනවාදැයි ඔබ සමඟ බෙදා ගැනීමට කැමැත්තෙමු.
ස්පර්ටින් ඉලක්කයට පහත වර්ග තිබේ: ෆ්ලෝයිඩ්රි ස්ප්ලමික් ස්පර්ටින් ඉලක්කය, මිශ්ර පිංතූර ස්පර්ටින් ඉලක්කය, චරිතය පිංතූර ස්පර්ටින් ඉලක්කය, නයිට්රයයිඩ් පිඟන් මැටි ඉලක්කය, ඔක්සයිඩ් සෙරමික් ඉලක්කය, සෙලේනෙඩ් සෙරමික් තාක්රගාමී ඉලක්කය , සිලිසයිඩ් සෙරමික් ඉසින ඉලක්කය, සල්ෆයිඩ් සෙරමික් ඉසින ඉලක්කය, ටෙලුරයිඩ් සෙරමික් ඉසින ඉලක්කය, අනෙකුත් සෙරමික් ඉලක්ක, ක්‍රෝමියම් මාත්‍රණය කළ සිලිකන් ඔක්සයිඩ් සෙරමික් ඉලක්කය (CR SiO), ඉන්ඩියම් ෆොස්ෆයිඩ් ඉලක්කය (INP), ඊයම් ආසනයිඩ් ඉලක්කය (pbars) )
Magnetron sputtering සාමාන්‍යයෙන් වර්ග දෙකකට බෙදා ඇත: DC sputtering සහ RF sputtering.DC ඉසින උපකරණවල මූලධර්මය සරල වන අතර, ලෝහ ඉසින විට එහි අනුපාතය ද වේගවත් වේ.RF sputtering බහුලව භාවිතා වේ.සන්නායක දත්ත ස්පුටර් කිරීමට අමතරව, එය සන්නායක නොවන දත්ත ද ස්පුටර් කළ හැකිය.ඒ අතරම, ඔක්සයිඩ, නයිට්‍රයිඩ සහ කාබයිඩ් වැනි සංයෝග දත්ත සකස් කිරීම සඳහා ප්‍රතික්‍රියාශීලී ඉසිලීම ද ඉසින ඉලක්කය සිදු කරයි.RF සංඛ්‍යාතය වැඩි වුවහොත් එය මයික්‍රෝවේව් ප්ලාස්මා ස්පුටරින් බවට පත්වේ.වර්තමානයේ ඉලෙක්ට්‍රෝන සයික්ලොට්‍රෝන අනුනාදනය (ECR) මයික්‍රෝවේව් ප්ලාස්මා ස්පුටරින් බහුලව භාවිතා වේ.
පසු කාලය: මැයි-18-2022