ඉලක්කයට පුළුල් වෙළඳපලක්, යෙදුම් ප්‍රදේශයක් සහ අනාගතයේදී විශාල සංවර්ධනයක් ඇත.ඉලක්ක කාර්යයන් පිළිබඳ වඩා හොඳ අවබෝධයක් ලබා ගැනීමට ඔබට උපකාර කිරීම සඳහා, මෙහි පහත RSM ඉංජිනේරුවරයා ඉලක්කයේ ප්රධාන ක්රියාකාරී අවශ්යතා කෙටියෙන් හඳුන්වා දෙනු ඇත.
සංශුද්ධතාවය: ඉලක්කයේ ප්රධාන ක්රියාකාරී දර්ශක වලින් එකක් වන්නේ සංශුද්ධතාවයයි, මන්ද ඉලක්කයේ සංශුද්ධතාවය චිත්රපටයේ ක්‍රියාකාරිත්වයට විශාල බලපෑමක් ඇති කරයි.කෙසේ වෙතත්, ප්‍රායෝගික භාවිතයේදී, ඉලක්කයේ සංශුද්ධතා අවශ්යතා ද වෙනස් වේ.උදාහරණයක් ලෙස, ක්ෂුද්‍ර ඉලෙක්ට්‍රොනික් කර්මාන්තයේ ශීඝ්‍ර දියුණුවත් සමඟ, සිලිකන් වේෆර් ප්‍රමාණය 6 සිට 8″ සිට 12 දක්වා පුළුල් වන අතර, රැහැන් පළල 0.5um සිට 0.25um, 0.18um හෝ 0.13um දක්වා අඩු වේ.මීට පෙර, ඉලක්ක සංශුද්ධතාවයෙන් 99.995% ක් 0.35umic හි ක්‍රියාවලි අවශ්යතා සපුරාලිය හැකි අතර, 0.18um රේඛා සැකසීම සඳහා ඉලක්ක සංශුද්ධතාවයෙන් 99.999% හෝ 99.9999% පවා අවශ්‍ය වේ.
අපිරිසිදු අන්තර්ගතය: ඉලක්කගත ඝන ද්‍රව්‍යවල ඇති අපද්‍රව්‍ය සහ සිදුරුවල ඇති ඔක්සිජන් සහ ජල වාෂ්ප තැන්පත් වූ චිත්‍රපටවල ප්රධාන දූෂණ ප්‍රභවයන් වේ.විවිධ අරමුණු සඳහා ඉලක්ක විවිධ අපිරිසිදු අන්තර්ගතයන් සඳහා විවිධ අවශ්යතා ඇත.උදාහරණයක් ලෙස, අර්ධ සන්නායක කර්මාන්තයේ භාවිතා කරන පිරිසිදු ඇලුමිනියම් සහ ඇලුමිනියම් මිශ්ර ලෝහ ඉලක්ක ක්ෂාර ලෝහ අන්තර්ගතය සහ විකිරණශීලී මූලද්රව්ය අන්තර්ගතය සඳහා විශේෂ අවශ්යතා ඇත.
ඝනත්වය: ඉලක්කගත ඝනයේ සිදුරු අඩු කිරීමට සහ ස්පුටර් ෆිල්ම් වල ක්‍රියාකාරිත්වය වැඩි දියුණු කිරීමට සාමාන්‍යයෙන් ඉලක්කයට අධික ඝනත්වයක් අවශ්‍ය වේ.ඉලක්කයේ ඝනත්වය sputtering අනුපාතය බලපානවා පමණක් නොව, චිත්රපටයේ විද්යුත් හා දෘශ්ය කාර්යයන් ද බලපායි.ඉලක්ක ඝනත්වය වැඩි වන තරමට චිත්රපටයේ කාර්යය වඩා හොඳය.මීට අමතරව, ඉලක්කයේ ඝනත්වය සහ ශක්තිය වැඩි දියුණු වන අතර එමඟින් ඉලක්කයට ඉසින ක්‍රියාවලියේදී තාප ආතතිය වඩා හොඳින් පිළිගත හැකිය.ඝනත්වය ද ඉලක්කයේ ප්රධාන ක්රියාකාරී දර්ශක වලින් එකකි.
පසු කාලය: මැයි-20-2022