රික්ත ආලේපන ද්‍රව්‍ය CoFeTaZr ඉලක්කය කොබෝල්ට්-යකඩ-ටැන්ටලම්-සර්කෝනියම් මිශ්‍ර ලෝහ ඉලක්කය Magnetron Sputtering ඉලක්කය

රික්ත ආලේපන ද්රව්යCoFeTaZr ඉලක්කයකොබෝල්ට්-යකඩ-ටැන්ටලම්-සර්කෝනියම් මිශ්‍ර ලෝහ ඉලක්කය Magnetron Sputtering ඉලක්කය,
CoFeTaZr ඉලක්කය,
ක්‍රෝමියම් කොබෝල්ට් ඉසින ඉලක්කයRich Special Materials යනු Cr සහ Co අඩංගු රිදී මිශ්‍ර ලෝහ ඉසින ද්‍රව්‍යයකි.

ක්‍රෝමියම් යනු වර්ණය යන අර්ථය ඇති ග්‍රීක 'ක්‍රෝමා' වලින් ආරම්භ වූ රසායනික මූලද්‍රව්‍යයකි.එය ක්‍රිස්තු වර්ෂ 1 ට පෙර භාවිතා කරන ලද අතර ටෙරකොටා හමුදාව විසින් සොයා ගන්නා ලදී."Cr" යනු ක්රෝමියම්වල කැනොනිකල් රසායනික සංකේතයයි.මූලද්‍රව්‍යවල ආවර්තිතා වගුවේ එහි පරමාණුක ක්‍රමාංකය 24 වන අතර එය d-බ්ලොක් එකට අයත් කාලපරිච්ඡේදය 4 සහ 6 කාණ්ඩයේ පිහිටීමකි.ක්‍රෝමියම්වල සාපේක්ෂ පරමාණුක ස්කන්ධය 51.9961(6) ඩෝල්ටන් වේ, එය අවිනිශ්චිත බව පෙන්නුම් කරන වරහන් තුළ ඇති සංඛ්‍යාවයි.

කොබෝල්ට් යනු ගොබ්ලින් යන අර්ථය ඇති 'කොබෝල්ඩ්' යන ජර්මානු වචනයෙන් ආරම්භ වූ රසායනික මූලද්‍රව්‍යයකි.එය මුලින්ම සඳහන් කළේ 1732 දී සහ G. Brandt විසින් නිරීක්ෂණය කරන ලදී."Co" යනු කොබෝල්ට් හි කැනොනිකල් රසායනික සංකේතයයි.මූලද්‍රව්‍යවල ආවර්තිතා වගුවේ එහි පරමාණුක ක්‍රමාංකය 27 වන අතර එය d-බ්ලොක් එකට අයත් කාලපරිච්ඡේදය 4 සහ 9 කාණ්ඩයේ පිහිටීමකි.කොබෝල්ට් හි සාපේක්ෂ පරමාණුක ස්කන්ධය 58.933195(5) ඩෝල්ටන් වේ, එය අවිනිශ්චිත බව පෙන්නුම් කරන වරහන් තුළ ඇති සංඛ්‍යාවයි.

Chronium Cobalt Sputtering Targets නිපදවනු ලබන්නේ Vacuum Melting සහ PM මගිනි.CrCo හට උසස් නිශ්චිත ශක්තියක් ඇති අතර අභ්‍යවකාශ කර්මාන්තය, කට්ලරි, ෙබයාරිං, බ්ලේඩ් යනාදිය ඇතුළුව ඉහළ ඇඳුම් ප්‍රතිරෝධයක් අවශ්‍ය වූ විවිධ ක්ෂේත්‍රවල භාවිතා කර ඇත.

Rich Special Materials විසින් Sputtering Target නිෂ්පාදනය සඳහා විශේෂීකරණය වී ඇති අතර පාරිභෝගිකයන්ගේ පිරිවිතරයන්ට අනුව Chronium Cobalt Sputtering Materials නිෂ්පාදනය කළ හැක.වැඩි විස්තර සඳහා, කරුණාකර අප හා සම්බන්ධ වන්න. සර්කෝනියම් යකඩ කොබෝල්ට් ටැන්ටලම් ඉලක්ක ද්‍රව්‍ය ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් කොබෝල්ට්, යකඩ, ටැන්ටලම්, සර්කෝනියම් වලින් සෑදී ඇත්තේ ඉලක්ක ද්‍රව්‍යවල ඉහළ රික්තක දියවීමෙනි, තාක්‍ෂණයට ඉලක්ක නිෂ්පාදනයේ ඔක්සිජන් අන්තර්ගතය සහ භාවිතය ඵලදායී ලෙස පාලනය කළ හැකිය. අච්චුවෙහි විශේෂ සිසිලනය, මිශ්‍ර ද්‍රව සීඝ්‍ර සිසිලනය, මිශ්‍ර ලෝහ ඉලක්ක ද්‍රව්‍ය ඒකාකාර ව්‍යුහය, ඒකාකාර සංයුතිය බෙදා හැරීම, කුඩා, ඉහළ උෂ්ණත්වය සහ අධි පීඩන ඝණීකරණ සැකසුම් හරහා ද්‍රව්‍ය ඉතා ඝන බවට පත් කිරීම, මෙය ඉහළ ඉසීම සඳහා සහතිකයක් සපයයි. ගුණාත්මක චිත්රපට.තාප පිරියම් කිරීමෙන් පසු, ඉලක්කයේ චුම්බක හිස අනුපාතය (PTF) සැලකිය යුතු ලෙස වැඩි වන අතර, කොබෝල්ට්-යකඩ-ටැන්ටලම්-සර්කෝනියම් ඉලක්කය මගින් තැන්පත් කර ඇති තුනී පටල සිරස් චුම්බක පටිගත කිරීමේ චිත්රපටයේ වැදගත් මෘදු චුම්බක ස්ථර වේ.