තොග WMo Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Manufacturer and Supplier |පොහොසත්

ටංස්ටන් මොලිබ්ඩිනම් මිශ්‍ර ලෝහ ඉසින ඉලක්කය

WMo Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom made Featured Image

කෙටි විස්තරය:

වර්ගය	ඇලෝයි ස්පුටරින් ඉලක්කය
රසායනික සූත්රය	WMo
සංයුතිය	ටංස්ටන් මොලිබ්ඩිනම්
පිරිසිදුකම	99.9%, 99.95%, 99.99%
හැඩය	තහඩු, තීරු ඉලක්ක, චාප කැතෝඩ, අභිරුචි-සාදන ලද
නිෂ්පාදන ක්රියාවලිය	රික්ත දියවීම, PM
ලබා ගත හැකි ප්රමාණය	L≤200mm,W≤200mm

අපට විද්‍යුත් තැපෑල එවන්න

නිෂ්පාදන විස්තර

නිෂ්පාදන ටැග්

Tungsten Molybdenum Sputtering Target විස්තරය

ටංස්ටන් මොලිබ්ඩිනම් ස්පුටරින් ඉලක්කය යනු මොලිබ්ඩිනම් සහ ටංස්ටන් වලින් සමන්විත මිශ්‍ර ලෝහ ඉසින ඉලක්කයකි.

Molybdenum යනු ඊයම් යන අර්ථය ඇති ග්‍රීක 'molybdos' වලින් ආරම්භ වූ රසායනික මූලද්‍රව්‍යයකි.එය මුලින්ම සඳහන් කළේ 1778 දී වන අතර එය නිරීක්ෂණය කරන ලද්දේ ඩබ්ලිව්.හුදකලාව පසුව J. Hjelm විසින් ඉටු කර නිවේදනය කරන ලදී."Mo" යනු molybdenum හි කැනොනිකල් රසායනික සංකේතයයි.මූලද්‍රව්‍යවල ආවර්තිතා වගුවේ එහි පරමාණුක ක්‍රමාංකය 42 වන අතර එය d-බ්ලොක් එකට අයත් කාලපරිච්ඡේදය 5 සහ 6 කාණ්ඩයේ පිහිටීමයි.molybdenum හි සාපේක්ෂ පරමාණුක ස්කන්ධය 95.94(2) Dalton, අවිනිශ්චිතතාවය පෙන්නුම් කරන වරහන් තුළ ඇති අංකය.

ටංස්ටන්, වුල්ෆ්‍රෑම් ලෙසද හැඳින්වේ;wolframium, ස්වීඩනයේ 'tung sten' යන අර්ථය ඇති බර ගල් (W යනු wolfram, ටංස්ටන් ඛනිජ wolframite පැරණි නම) සිට ආරම්භ වූ රසායනික මූලද්රව්යයකි.එය මුලින්ම සඳහන් කළේ 1781 දී සහ ටී. බර්ග්මන් විසින් නිරීක්ෂණය කරන ලදී.හුදකලාව පසුව J. සහ F. Elhuyar විසින් ඉටු කර නිවේදනය කරන ලදී."W" යනු ටංස්ටන්හි කැනොනිකල් රසායනික සංකේතයයි.මූලද්‍රව්‍යවල ආවර්තිතා වගුවේ එහි පරමාණුක ක්‍රමාංකය 74 වන අතර එය d-බ්ලොක් එකට අයත් කාලපරිච්ඡේදය 6 සහ 6 කාණ්ඩයේ පිහිටීමයි.ටංස්ටන්හි සාපේක්ෂ පරමාණුක ස්කන්ධය 183.84(1) ඩෝල්ටන්, අවිනිශ්චිත බව පෙන්නුම් කරන වරහන් තුළ ඇති අංකය.

ටංස්ටන් මොලිබ්ඩිනම් ඉලක්ක ඇසුරුම්කරණය

අපගේ Tungsten molybdenum sputter ඉලක්කය පැහැදිලිව ටැග් කර ඇති අතර කාර්යක්ෂම හඳුනා ගැනීම සහ තත්ත්ව පාලනය සහතික කිරීම සඳහා බාහිරව ලේබල් කර ඇත.ගබඩා කිරීමේදී හෝ ප්‍රවාහනයේදී සිදුවිය හැකි හානිය වළක්වා ගැනීමට දැඩි සැලකිල්ලක් දක්වයි.

සම්බන්ධතා ලබා ගන්න

RSM හි ටංස්ටන් molybdenum ඉසින ඉලක්ක අතිශයින් ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් සහ ඒකාකාරී වේ.ඒවා විවිධ ආකාරවලින්, සංශුද්ධතාවයෙන්, ප්රමාණවලින් සහ මිල ගණන් වලින් ලබා ගත හැකිය.පුස් ආලේපනය, සැරසිලි, මෝටර් රථ කොටස්, අඩු-ඊ වීදුරු, අර්ධ සන්නායක ඒකාබද්ධ පරිපථය, තුනී පටල සඳහා භාවිතා කිරීම සඳහා විශිෂ්ට කාර්ය සාධනයක් මෙන්ම හැකි ඉහළම ඝනත්වය සහ හැකි කුඩාම සාමාන්‍ය ධාන්ය ප්‍රමාණයන් සහිත ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් තුනී පටල ආලේපන ද්‍රව්‍ය නිෂ්පාදනය කිරීමට අපි විශේෂීකරණය කරමු. ප්‍රතිරෝධය, ග්‍රැෆික් සංදර්ශකය, අභ්‍යවකාශය, චුම්බක පටිගත කිරීම, ස්පර්ශ තිරය, තුනී පටල සූර්ය බැටරි සහ අනෙකුත් භෞතික වාෂ්ප තැන්පත් (PVD) යෙදුම්.ලැයිස්තුගත කර නොමැති ඉසින ඉලක්ක සහ අනෙකුත් තැන්පත් ද්‍රව්‍ය පිළිබඳ වත්මන් මිල ගණන් සඳහා කරුණාකර අපට විමසීමක් එවන්න.

කලින්: WRe Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom made

ඊළඟ: WNi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom made